G线、i线低端胶国产化率已超60%，但适配7-28nm先进制程的ArF光刻胶规模化国产化率不足1%，EUV光刻胶更接近0%
全球90%以上的ArF/EUV高端光刻胶被日本JSR、信越化学、东京应化、富士胶片四家垄断。
更隐蔽的卡点在于上游，光刻胶的上游树脂、光引发剂、超高纯溶剂同样是“黑箱配方”，日企手握全球60%以上核心专利，单款高端胶研发周期普遍6-8年。
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