重大突破！国产EUV光源样机首秀：国产化率达90%

第26届中国工博会上，朗道燧岩首次公开展示了一台EUV光源系统样机。这也是目前公开展示国产进度最靠前的 EUV 光源样机。

极紫外光源是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约中国高端芯片自主可控的关键环节。

现场工作人员介绍，本次展出的光源系统国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。尽管目前距离量产还需3—5年，但这一突破已迈出了国产EUV光源从实验室走向产业化的关键一步。

朗道科技主要从事半导体制造专用设备的研发、生产与相关技术服务。创始人王豪博士团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV光刻光源技术，致力于突破高端装备领域的卡脖子难题。

该公司成立于2024年，2025年10月获得张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，2026年1月完成天使+轮融资，2026年7月完成A轮融资，投资方包括沃衍资本、中芯聚源等。