【重大突破！我国新一代光刻机模型亮相】11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。
上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
SMEE表示，本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。（上海证券报微信公众号）