【重大突破！我国新一代光刻机模型亮相】11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。http://t.cn/AXYi5ULF
东方财富网
【重大突破！我国新一代光刻机模型亮相】11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。http://t.cn/AXYi5ULF