#我国新一代光刻机模型亮相#“道阻且长，行则将至。”第九届进博会上，上海微电子新一代前道干式光刻机亮相，关键零部件国产化率突破九成，完成定型并规模化量产，是半导体突围路上的重要一步。从物镜、双工件台到传感对准系统，核心环节实现全链条自主可控，设备已在国内产线稳定流片千万片，运行率超九成二。半导体装备壁垒高耸，长期被海外技术封锁。这一份成果，是科研人经年累月的沉潜攻坚，证明核心装备可以一步一个脚印，逐步掌握在自己手中。 http://t.cn/AXYiNrXL