【重大突破！#我国新一代光刻机模型亮相# 】#光刻机#

11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行，一系列重磅科技集中亮相。会上，上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
此次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。对光刻机这类高度复杂的装备而言，剖视模型的意义在于让外界得以一窥内部结构——光如何走、机电系统如何协同，一目了然。http://t.cn/AXY6Dl36