电阻直降40%!375层NAND量产突破,以钼代钨引爆半导体新材料主线
半导体高纯钼、钨、钽、钴、铜、钛等难熔金属,是AI算力芯片、3D NAND闪存、HBM高带宽内存制造核心关键材料,可突破芯片物理极限、降低功耗、提升传输性能。
发布于 湖南
电阻直降40%!375层NAND量产突破,以钼代钨引爆半导体新材料主线
半导体高纯钼、钨、钽、钴、铜、钛等难熔金属,是AI算力芯片、3D NAND闪存、HBM高带宽内存制造核心关键材料,可突破芯片物理极限、降低功耗、提升传输性能。