当地时间7月20日，俄罗斯科技行业媒体CNews报道，俄罗斯绿城纳米技术中心（ZNTC）成功建成一套电子束光刻设备，设计标准为150纳米，大致对应20年前英特尔奔腾4的性能水平。目前样机已正式进入为期四个月的全流程综合性能测试阶段。

这个项目属于俄罗斯国家计划科学技术发展框架下的重点研发任务，代号为ProgressELL150。核心目标是打破海外光刻设备垄断，构建本土化半导体微纳加工体系。本次设备曝光也不是突然官宣，最早线索源自2026年6月俄罗斯公开的政府采购运输招标文件，文件明确公示将承运自研150纳米电子束光刻试验样机。

据文件显示，绿城纳米技术中心正在为交付“设计规范150纳米的电子束光刻设备样机”寻找承运方，该项工作属试验设计工作（ОКР），代号为“ProgressELL150”。发运地为绿城，目的地未公开。

但绿城纳米技术中心总经理阿纳托利·科瓦廖夫（АнатолийКовалев）表示，该设备将运往距绿城约2000公里处。

科瓦廖夫介绍说：“目前两台样机正在进行综合试验，试验将持续约四个月。之后将开始图像精度及其他工艺参数方面的试验。”

该设备的关键特点是无掩模光刻。与通过光掩模转移图形的光学光刻不同，电子束光刻借助聚焦电子束直接在衬底上形成图像。这样既可以制作光掩模，也可以在硅及其他衬底上不使用掩模直接成图，对试产批次、原型样机和专用芯片的生产至关重要。