白俄罗斯助力俄罗斯打造主权芯片制造设备线

2026年7月23日，俄罗斯信息技术门户网站cnews.ru报道，俄罗斯与白俄罗斯已联手，共同打造一条用于生产光掩模和光刻工艺的设备线。双方正与白俄罗斯的开放式股份公司"Planar"合作，开发九种设备，旨在打通芯片制造工艺链中的关键环节。

🔹九个项目

据CNews了解，俄罗斯企业与白俄罗斯"Planar"公司合作，正在开发九种设备，这些设备应能填补芯片制造工艺链中的关键空白。

根据俄工贸部机床制造司司长瓦列里·皮文所做的报告，与"Planar"公司的联合项目几乎涵盖了光掩模制造的整个工艺链：从在光掩模上绘制图形到检测其缺陷。光掩模是一种带有微电路拓扑图形的玻璃基板，在光刻工艺中作为"底片"，用于将图像转移到硅晶圆上。

🔹开发内容

开发清单中包含用于90-65纳米工艺节点、在光掩模上生成图像的设备（"GIF工艺"，2025年）以及用于相同技术节点的光掩模拓扑检测设备（"KTF工艺"，2024年）。

2026年计划同时开发数种设备：将套刻标记转移到晶圆背面的设备（"Progress-Transfer"）、拓扑元件坐标检测设备（"Progress-Control"）、激光修复缺陷设备（"Progress-Retouch"）以及检测引入缺陷的设备（"Progress-KDPP"）。2027年计划开发半色调掩蔽涂层检测设备（"Progress-PMP"）。

CNews此前已报道，俄罗斯与白俄罗斯正在合作研发350纳米和130纳米光刻机。而此次项目则将合作拓展至其他同样关键的光掩模制造设备类型。

光掩模图形生成器的研制是核心开发项目之一。该设备能以高精度在光掩模上形成拓扑图形，这是生产现代微芯片所必需的。拓扑和坐标检测设备用于检查图形绘制是否正确，识别偏差和缺陷；而激光修复设备则可在无需重做光掩模的情况下修复微小缺陷。套刻标记转移设备则是多层芯片生产中确保各层精确对准所必需的。

🔹谁的贡献更大？

Strategy Partners公司"工业与技术"业务合伙人罗曼·季尼亚耶夫向CNews表示，"Planar"公司集中了制造复杂光掩模设备的技术专长，这是自苏联时代保留下来的。

季尼亚耶夫称："工程和生产工作由白俄罗斯企业承担。俄方则扮演客户、方法论制定者、集成商的角色，并提供资金支持。"

他认为，与"Planar"的合作是必要的联合举措，无疑是一个战术上的成功。季尼亚耶夫总结道，凭借"Planar"，俄罗斯填补了生产链中的关键空白（从在光掩模坯料上写入拓扑图形，到多层次检测，再到激光修复缺陷）。

俄罗斯已在推进自身的电子机械制造项目，发展光掩模制造基础设施，投资技术设备研发，并打造新的产能。SNDGLOBAL控股公司项目经理康斯坦丁·拉波特科认为，这意味着，无论与"Planar"的具体项目如何，本土工程基础的独立发展都在进行中。

独立专家、Telegram频道RUSMicro作者阿列克谢·博伊科认为，未来几年我们或将看到完全由俄罗斯企业开发的光刻设备问世。

🔹"Planar"公司背景

"Planar"公司是白俄罗斯的微电子设备制造商，也是后苏联空间内的关键参与者之一。公司总部设在明斯克，专注于制造用于光刻工艺、半导体晶圆及光掩模参数检测与测量的设备。与"Planar"的合作，使俄罗斯得以获取其国内目前尚不具备的技术和生产能力。

与"Planar"的联合项目符合俄罗斯电子机械制造发展规划，其目标是到2030年替代约70%的进口微电子设备和材料。该规划已安排预算拨款超过2400亿卢布。