【俄企业成功开发 150nm 电子束直写光刻原型系统】电子束光刻是一种不依赖掩模版的光学图案化技术，对于小规模制造具有灵活便捷的优势，但难以大规模生产。
IT之家
【俄企业成功开发 150nm 电子束直写光刻原型系统】电子束光刻是一种不依赖掩模版的光学图案化技术，对于小规模制造具有灵活便捷的优势，但难以大规模生产。