#iPhone20外观#
苹果在追求真全面屏的过程中，正面临屏下3D结构光的技术瓶颈，目前内部存在两套并行方案。
屏下Face ID难点：Face ID的点阵投射与红外识别需要充足光线通量，藏于屏下会影响暗光识别率与支付安全性。
兜底测试方案：因完整屏下方案风险较高，供应链透露大概率先采用缩小版灵动岛或居中单挖孔方案过渡。
发布于 浙江
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苹果在追求真全面屏的过程中，正面临屏下3D结构光的技术瓶颈，目前内部存在两套并行方案。
屏下Face ID难点：Face ID的点阵投射与红外识别需要充足光线通量，藏于屏下会影响暗光识别率与支付安全性。
兜底测试方案：因完整屏下方案风险较高，供应链透露大概率先采用缩小版灵动岛或居中单挖孔方案过渡。