#我国新一代光刻机模型亮相##我国光刻机领域新成果# 第九届进博会上，上海微电子（SMEE）携新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型亮相中国馆。该平台适配I-line、KrF路线，关键部件全链条自主可控，国产化率超90%，已定型量产，多台设备在头部逻辑、存储产线稳定运行，累计流片超千万片，有效运行率超92%。
发布于 北京
郭局