最近的上海进博会上，上海微电子展示的新款光刻机模型，引起了外界的高度关注。有营销号文章说这是关键突破，也有文章指出，模型的制程不是28nm，也不是40nm，没啥可激动的。今天这期视频我们稍微展开聊聊。

进博会的第一天，龙科多工作室的同事也去看了上海微的展台，准确来讲，是中国馆的科技成就展区。上海微的这款模型，与国产盾构机、月球车、大飞机等的模型，一起展示。

我们团队的第一印象是，相比上海微之前在各类行业展会公开展出的更大一号模型，这次的模型体积更小，名字也很简单，就写了一句话，干式光刻机。既然如此，那么，内部结构也没啥大变化，所以当时我们也没觉得多稀奇。

但进博会的第二天，上海微的公众号罕见的高调发布文章，介绍这款模型，也彻底的搅动了舆论场。

上海微的公众号介绍，该模型是新一代前道干式光刻机通用技术平台，可以适配i-line、KrF（氟化氪）两种光源，主要的设备上游模块，已经完全自主可控，目前，已经稳定量产，已经在国内头部逻辑芯片厂、存储芯片厂稳定运行，支持产线流片超千万片。

确实是难得主动宣传一次，感觉也是憋了很久，有话要讲，而且，从舆论氛围来看，也是允许讲点啥了。

果然，上海证券报根据发布了一篇报道，通过采访专家的形式，进一步披露，上海微新款光刻机模型是一款通用平台，具体型号分别是SSC-800、SSB-800，还指出新款光刻机国产化率突破90%。

以上就是若干关键的权威信息介绍。过去几年，大机器太低调了，因此，这次的主动宣传，哪怕是光刻机制程看似并不是非常先进，但还是极大的回应了外界的兴趣，推高了舆论热度。

当然，网络上出现的关于制程的夸张猜测，就有一定的误导性了。例如，有说法认为可能是90nm，甚至已经拉到60nm。龙科多起初的分析，也倾向于90nm。因为上海微在其它展会上公开的制程是110nm，按技术演进推断，这次大概率是升级到90nm。

不过，龙科多详细梳理分析后，否认了之前的猜测，目前更倾向于认为，上海微这次展示的新一代光刻机，不是制程的“新”，而是整座平台的“新”。