DUV也要纳入制裁，直接断了老美稀土。

MATCH Act 计划将SMIC（中芯国际）、YMTC（长江存储）、CXMT（长鑫存储）、Huahong Group（华虹集团）、Huawei（华为） 五家中企及其子公司和关联企业列入“受管制设施”，实施全面出口限制。

需要指出的是，在此之前，除CXMT之外，其他四家中企都已经被列入“实体清单”。而最新的限制措施则是“实体清单”的升级版，限制更为严格，不仅全面禁止出口，还将禁止任何维修服务和技术支持。

MATCH Act主要内容

1、MATCH Act对“受关注国家”（包括中国）全面禁止出口关键半导体制造设备（SME），具体包括：

①浸没式深紫外（DUV）光刻设备

目前全球仅荷兰ASML和日本尼康（Nikon）能生产浸没式DUV光刻机，这类设备通过多重曝光最高能够支持7nm制程芯片的制造。

在美国的施压下，荷兰政府曾在2023年出台了有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例，限制了部分先进的浸没式DUV的对华出口。但ASML得益于此前从荷兰政府那里所取得的出口许可证，依然在2023年底之前向大多数的应用于次关键和成熟制程的中国晶圆制造商出口了一系列浸没式DUV光刻系统，包括NXT:1980Di，以及被禁的NXT:2050i、NXT:2100i高阶浸没式DUV光刻系统等。即便该许可证失效后，其NXT:1980Di依然是可以对华出口的。

②低温蚀刻设备

低温蚀刻设备是3D NAND、先进封装等高深宽比工艺的核心工具。目前在高端刻蚀设备领域主要供应商为美国应用材料和泛林集团，以及日本的TEL。

其中，日本TEL拥有完整的刻蚀产品线。比如其主力刻蚀设备（如用于存储器生产的超高深孔刻蚀机）在工艺过程中广泛采用了低温技术来控制化学反应、保护光刻胶并实现高深宽比。