涂胶显影设备:芯源微(日本占比95%);
-- 探针台:矽电股份(日本占比80%);
-- 测试机:长川科技、华峰测控、精智达(日本占比60%);
材料:
-- 光刻胶:上海新阳、鼎龙股份、彤程新材(日本占比85%);
-- 光刻胶配套试剂:格林达(日本占比85%);
-- 掩膜版:路维光电、龙图光罩、清溢光电、(日本占比60%);
零部件:
-- 陶瓷结构件:珂玛科技(日本占比90%);
-- 分子泵:京仪装备(日本占比40%);
发布于 上海
涂胶显影设备:芯源微(日本占比95%);
-- 探针台:矽电股份(日本占比80%);
-- 测试机:长川科技、华峰测控、精智达(日本占比60%);
材料:
-- 光刻胶:上海新阳、鼎龙股份、彤程新材(日本占比85%);
-- 光刻胶配套试剂:格林达(日本占比85%);
-- 掩膜版:路维光电、龙图光罩、清溢光电、(日本占比60%);
零部件:
-- 陶瓷结构件:珂玛科技(日本占比90%);
-- 分子泵:京仪装备(日本占比40%);