第九届进博会期间，上海微电子 SMEE 展出 SSC800（KrF）、SSB800（I-line）前道干式光刻机模型。设备适配 I-line、KrF 路线，物镜、双工件台等核心系统自主可控，关键零部件国产化率超 90%，性能对标国际一线。

该机型已定型、规模化量产，落地国内头部逻辑、存储产线，累计流片超千万片，设备有效运行率高于 92%。SMEE 为国内唯一可稳定量产交付前道干式光刻机的厂商，国产光刻设备产业化持续提速。

全国产半导体时代很快就要到来了。

#我国新一代光刻机模型亮相#