有些人到现在还是嘴犟，韬定律跟你爹的那种所谓堆叠技术根本不是一回事。韬定律不仅是技术理论，还是由1000多个专利组成的技术标准，别动不动就是你爹也有，相信你爹看不上你这种弱智低能儿。

不过话又说回来，韬定律也不是万能的，跳不出芯片的物理极限，现在的意义就是在芯片性能上不落后于对手，为EUV光刻机或传说中的光刻厂争取3-5年的时间。真正的发力是在新材料芯片上。

现在全球用的都是硅基芯片，现在已经快到极限了，必须要选择出路。唯一的办法就是换材料，目前各国正在研发二维半导体材料芯片（如二硫化钼、硒化铟)，碳基芯片等，而这方面我们已经占有优势，前景非常乐观。

上海已经建成了全球首条二维半导体工程化示范工艺线，预计2029年实现全球首款二维材料芯片的量产。重庆则建成世界首条碳基集成电路生产线，并且在2025年6月宣布量产。其他国家的还在实验室或者验证阶段，在新材料上我们已经领跑。

大约在2030年前后，我们最强的形态才能展现出来。就是国产EUV光刻机、韬定律架构、新材料工艺的结合。我们既能制造出顶尖的光刻设备，又有先进的材料，韬定律还能把性能发挥到极致时，那才是真正的换道超车。再别说你爹也有了，你爹是真没有。