溅射靶材是半导体、面板、光伏PVD制程核心耗材，用于在基片上沉积金属薄膜。全球高端市场由日矿金属、霍尼韦尔等美日企业垄断，整体国产化率不足10%，先进制程国产化比例更低。
发布于 广东
作手柳白
溅射靶材是半导体、面板、光伏PVD制程核心耗材，用于在基片上沉积金属薄膜。全球高端市场由日矿金属、霍尼韦尔等美日企业垄断，整体国产化率不足10%，先进制程国产化比例更低。