第九届进博会上海微电子装备集团展出了SSC800和SSB800光刻机模型。模型采用透明剖视设计，清楚呈现光学光路和内部机电系统布局。该平台适配I-line和KrF主流技术路线，物镜、高速双工件台、自动物料传输系统全部自主可控，国产化率已超90%。成像性能与国际领先产品相当，多台设备在国内头部产线稳定运行，运行率超过92%，累计支持流片超千万片。这表明前道干式光刻装备自主化已进入实质阶段。 #我国新一代光刻机模型亮相#