#我国新一代光刻机模型亮相#
国产光刻机又有新进展！

在第九届进博会上，上海微电子带来了新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800的模型展示，覆盖KrF和I-line两条技术路线。

简单来说，这类设备主要用于芯片制造中的光刻环节。目前相关机型已实现量产交付，多台设备在国内头部芯片产线上稳定运行，关键零部件国产化率超过90%。

需要注意的是，这次亮相的是设备模型，并非新机现场发布。

光刻机一直是半导体产业链中技术门槛极高的环节。国产设备能从研发走向量产、真正进入生产线，本身就是一个值得关注的进步。国产替代不是一蹴而就，但每一步都很重要。